【A 12】電子ビームマスク描画装置の次世代装置開発リーダー～シェアNo1 電子ビーム描画装置メーカー～

【求人No NJB2155113】
【業務内容】
〇電子ビームマスク描画装置における次世代装置のシステム開発、
要素開発業務などをご経験に合わせてお任せします。
上流工程の研究開発、設計から事業化（製品化）に至る顧客対応まで、
次世代装置の開発リーダーとして幅広く活躍いただきます。
海外のお客様とのやり取りが多く、学会なども国際学会がほとんどであるため、業務の中では英語を用いてコミュニケーションをとっていただくシーンがございます。

【具体的には】
・次世代描画装置のシステム・要素開発
└次世代描画装置のリリースに向け、お客様との折衝やマーケット調査を通し、装置の企画・検討を行いながら技術ロードマップを作成いただきます。
└他部署と協業しながら装置リリースに向けた企画業務となります。
・現行の描画装置におけるシステム・要素開発
└各グループの仕様に基づいた開発進捗の管理や、開発されたシステムがその仕様に対して適しているか評価・検討を行います。

※これまでの経験・スキルの範囲を活かして上記業務に携わっていただきます。

【ミッション】
描画装置の技術ロードマップを作成すべく、中長期間を視野にどういったコンセプトの描画装置をリリースするか検討いたします。
発展が著しい半導体に関連する装置を扱っているため、自動運転やスマートフォンなどの技術革新に密接に関わっていることから、未だ世にない世界で初めての技術の根幹に携わることができるといったやりがいを感じることができます。

【組織構成】
・12名（電子光学設計担当、システム開発担当、プロセス管理担当など）
基本的にチームや他部門と協業しながら業務を行っていただきます。
※半導体業界未経験の社員も在籍しております。

【働き方】
柔軟に働けるフレックスタイム制、リモートワーク可（平均週2日程度）。
休暇制度も整っており、完全週休2日制（土・日・祝）で年間休日は125日以上。

【職場や職務の魅力】
〇 電子ビームマスク描画装置は、半導体の回路パターンを転写する原版となるフォトマスクを製造する設備で、メモリーや先端ロジックの企業やファウンダリー企業、マスク専業メーカーなどが顧客となります。フォトマスクは、製品数の増加による需要増などにより、今後も拡大が期待されています。これに伴い、従来から市場を牽引してきたシングルビームのマスク描画装置も、一定の装置需要が毎年見込まれています。 加えて、7nm以下の微細プロセスの半導体の製造に必要なマスクは大幅に需要が伸びることから、マルチビームのマスク描画装置の需要も大きく拡大する見込になっています。次世代装置としては、処理性能や精度などの技術力、歩留りやダウンタイムの抑制といった生産性は勿論、顧客の生産フェーズまでを見据えた総保有コストの低減を提供していくことが必要となります。顧客にとって生産性の高い価値ある製品を投入していくことが次世代装置開発に求められる課題となります。