【1530～1971万円】先端半導体洗浄プロセス開発マネジャー（海外駐在候補）

【求人No NJB2415191】
■職務の概要
先端R D強化を目的とし、海外研究開発拠点にて洗浄装置プロセス開発及び企画の責任者を担当いただきます。
具体的には、将来の半導体洗浄プロセスに関する基礎研究、協業先との共同研究開発を推進するチームを率いていただきます。

■組織のミッション
R＆D戦略統轄部は、当社の全製品群を対象とした基礎研究・開発を担う部門であり、潜在的な先端シーズ技術の発掘や、イノベーティブなオンリーワン技術の創出等をミッションとしています。

■業務内容の詳細
・先端プロセス技術開発責任者として、企画から開発までを、組織メンバーを率い、社内の関係部門及び社外の関連機関（大学、コンソーシアム、各企業）と協力、共同して行う。特に海外研究開発拠点における協業先との共同研究開発を推進頂く。先端デバイスにおける洗浄課題をいち早く把握し、イノベーティブな新洗浄プロセス技術、新洗浄装置技術を創出する。
・先端プロセス技術開発責任者として、グローバルに顧客デモをマネジメントし、プロセス技術及び装置技術の早期上市へ向けた活動を推進する。
・先端プロセス技術開発責任者として、業界動向・先端技術ロードマップの追従は勿論、これまでにない新たな技術を開発、中・長期的な製品開発を推進する。

【職種/業界経験】
半導体装置開発の経験、10年以上 （半導体洗浄装置に限りません）
半導体装置開発のマネジメント経験

【求める経験・能力・スキル】
マネジャーとして先端半導体装置開発を牽引できる力
将来の装置像と必要な要素技術を探索、開発遂行できる力
半導体顧客対応経験、最新の半導体デバイス及び製造の顧客要望理解力

【歓迎条件】
グローバルな外部連携の経験、生産の視点から装置に必要な要件を理解できる