【A 14】電子ビームマスク描画装置の次世代装置における新規システム開発・要素技術開発～シェアNo1 電子ビーム描画装置メーカ…

【求人No NJB2155053】
■■Position　ご参考■■
ニューフレアテクノロジー社へご興味お持ち頂けるのであれば、お電話にて口頭でポジションについてご説明をさせて頂きます。

【業務内容】
〇電子ビームマスク描画装置における次世代装置のシステム開発、要素開発業務などをご経験に合わせてお任せします。
　上流工程の研究開発、設計から事業化（製品化）に至る顧客対応まで、次世代装置の開発リーダーとして幅広く活躍いただきます。
　海外のお客様とのやり取りが多く、学会なども国際学会がほとんどであるため、業務の中では英語を用いてコミュニケーションをとっていただくシーンがございます。

入社後まずは、
・現行の描画装置におけるシステム・要素開発
└装置の知識を習得しながら、各グループの仕様に基づいた開発進捗の管理や、
　開発されたシステムがその仕様に対して適しているか評価・検討を行います。

将来的には、
・次世代描画装置のシステム・要素開発
└次世代描画装置のリリースに向け、お客様との折衝やマーケット調査を通し、
　装置の企画・検討を行いながら技術ロードマップを作成いただきます。
└他部署と協業しながら装置リリースに向けた企画業務となります。

※これまでの経験・スキルの範囲を活かして上記業務に携わっていただきます。

【ミッション】
描画装置の技術ロードマップを作成すべく、中長期間を視野にどういったコンセプトの描画装置をリリースするか検討いたします。
発展が著しい半導体に関連する装置を扱っているため、自動運転やスマートフォンなどの技術革新に密接に関わっていることから、未だ世にない世界で初めての技術の根幹に携わることができるといったやりがいを感じることができます

【職場や職務の魅力】
〇 電子ビームマスク描画装置は、半導体の回路パターンを転写する原版となるフォトマスクを製造する設備です。
フォトマスクは、製品数の増加による需要増などにより、今後も拡大が期待されています。
また、7nm以下の微細プロセスの半導体の製造に必要なマスクは大幅に需要が伸びることから、マルチビームのマスク描画装置の需要も大きく拡大する見込になっています。
次世代装置としては、生産性、精度、、メンテナンス性、などあらゆる面での性能向上が求められます。
その為、難易度の高い課題にチャレンジする機会が多くあります。周辺には、経験豊富なベテラン開発者も多くおり、アドバイス適切なアドバイスを受けることが可能で、自らの開発、研究者者としての成長が期待できる職場です。